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描述：新型納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。
廠(chǎng)商性質(zhì)
生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間
2024-09-25訪(fǎng)問(wèn)量
1261| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 | 激光波長(zhǎng) | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 刻寫(xiě)范圍 | 50mm×50mm至100mm×100mm（可選） |
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊(cè)成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國(guó)和國(guó)內(nèi)的高層次人才組成，公司設(shè)有博士后流動(dòng)站。
納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。
新一代激光直寫(xiě)光刻設(shè)備特點(diǎn)
具有核心知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國(guó)產(chǎn)激光直寫(xiě)設(shè)備
具有超越衍射極限的加工能力
納米激光直寫(xiě)系統(tǒng)可適用于多種受體材料
本公司可根據(jù)客戶(hù)需要提供定制設(shè)備并提供各種微納結(jié)構(gòu)樣品的加工服務(wù)。
部分加工樣品如下圖
產(chǎn)品分類(lèi)
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